Германия ще предостави преки безвъзмездни средства за изграждането на четири производствени обекта, финансирани съвместно от федералния бюджет и властите на съответните федерални провинции.
Най-голяма част от помощта – 353 млн. евро – е предназначена за „Елемент 3-5“ (Element 3-5 GmbH) за изграждането на предприятие в Баесвайлер, провинция Северен Рейн-Вестфалия, за производство на епитаксиални пластини от силициев карбид.
„Вишей Силиконикс Ицехое“ (Vishay Siliconix Itzehoe GmbH) ще получи 214 млн. евро за завод в Итцехое, провинция Шлезвиг-Холщайн, за производство на силициеви силови транзистори.
За „Кей Ел Ей-Тенкор Ем Ай И“ (KLA-Tencor MIE GmbH) са одобрени 74,4 млн. евро за предприятие във Вайлбург, провинция Хесен, което ще произвежда усъвършенствано оборудване за оптичен контрол на наслагването на слоеве и метрология на тънки филми.
„КЕТЕК“ (KETEK GmbH) ще получи 17,9 млн. евро за производствена база в Мюнхен, провинция Бавария, за изработването на два високоспециализирани вида чипове – силициеви дрейфови детектори (Silicon Drift Detectors – SDD) и графенови входни прозорци за радиация (Graphene Radiation Entry Windows – GREW).